三氟化氮（NF3）是有毒、无色、无嗅、不可燃的氧化性压缩气体。NF3具有在室温条件下相对容易使用和可以用作氟化剂的优点。由于这些因素，它在许多应用中获得了广泛的认可。由于它的优点，如高蚀刻率、高选择性、无碳蚀刻和最小限度的残留污染，电子工业把它用在等离子和热清洁应用中。由于它相对于氟气更容易使用，NF3在高能化学激光器中用作氟源。在特殊化学品的生产中NF3还用作媒介。